- aut = "Ronghui Ma"
- Artículo:
Reduction of Chemical Reaction Mechanism for Halide- Assisted Silicon Carbide Epitaxial Film Deposition
- Autor:
Rong Wang
Ronghui Ma
Michael Dudley
- Página:
3860
- Sección:
Materials and Interfaces
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
8
- Fecha:
15 Abril 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2009-04-15.txt
- Documento número 199368
- Actualizado el martes, 23 de mayo de 2017 03:48:18 p. m.
- Creado el martes, 23 de mayo de 2017 03:48:18 p. m.
- Enlace directo
- Artículo:
Reduction of Chemical Reaction Mechanism for Halide- Assisted Silicon Carbide Epitaxial Film Deposition
- Autor:
Rong Wang
Ronghui Ma
Michael Dudley
- Página:
3860
- Sección:
Materials and Interfaces
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
8
- Fecha:
15 Abril 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2009-04-15.txt
- Documento número 703530
- Actualizado el martes, 10 de julio de 2018 10:33:37 a. m.
- Creado el martes, 10 de julio de 2018 10:33:37 a. m.
- Enlace directo
- Artículo:
Reduction of Chemical Reaction Mechanism for Halide- Assisted Silicon Carbide Epitaxial Film Deposition
- Autor:
Rong Wang
Ronghui Ma
Michael Dudley
- Página:
3860
- Sección:
Materials and Interfaces
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
8
- Fecha:
15 Abril 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2009-04-15.txt
- Documento número 1091785
- Actualizado el martes, 10 de julio de 2018 11:19:09 a. m.
- Creado el martes, 10 de julio de 2018 11:19:09 a. m.
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