Artículo:

Rapid Thermal Processing of Mesoporous Silica Films: A Simple Method to Fabricate Films Micrometers Thick for Microelectromechanical Systems (MEMS) Applications

Autor:

Hae-Kwon Jeong

Ramesh Chandrasekharan

Kuan-Lun Chu

Mark A. Shannon

Richard I. Masel

Página:

8933 - 8937

Sección:

RESEARCH NOTES

Publicación:

Industrial and Engineering Chemistry Research

Volúmen:

44

Número:

23

Fecha:

Noviembre 9 2005

ISSN:

08885885

SrcID:

08885885-2005-11-09.txt