- Artículo:
Selective Area Chemical-Deposition Process: An Innovative and Facile Route to Prepare 147Pm Sources for Dust Monitors
- Autor:
Manoj Kumar
Rakesh Shukla
Shyamala S. Gandhi
- Página:
11147
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
51
- Número:
34
- Periodo:
29 agosto 2012
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2012-08-29.txt
- Documento número 1096219
- Actualizado el martes, 10 de julio de 2018 11:19:44 a. m.
- Creado el martes, 10 de julio de 2018 11:19:44 a. m.
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