Número de Documento     
Artículo:

Ion beam analysis of CH/Si layers deposited by ECR-CVD

Autor:

J. A. Mejía Hernández

G. Murillo

R. Policroniades

E. Andrade

E. Camps

S. Muhl

E. P. Zavala

Página:

65

Publicación:

Revista Mexicana de Física S (Suplemento)

Volúmen:

53

Número:

3

Periodo:

febrero 2007

ISSN:

0035001x

SrcID:

0035001x-2007-03sup.txt

Número de Documento