- Artículo:
Novel Selective Etching Method for Silicon Nitride Films on Silicon Substrates by Means of Subcritical Water
- Autor:
Kiyoyuki Morita
Kiyoshi Ohnaka
- Página:
4684
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
39
- Número:
12
- Periodo:
Diciembre 2000
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2000-12.TXT
- Documento número 1436836
- Actualizado el viernes, 27 de noviembre de 2020 05:18:28 p. m.
- Creado el viernes, 27 de noviembre de 2020 05:18:28 p. m.
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