- Artículo:
High-Volume Single-Wafer Reactors for Silicon Epitaxy
- Autor:
Srikanth Kommu
Bamin Khomami
- Página:
732
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
41
- Número:
4
- Periodo:
Febrero 2002
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2002-02-20.txt
- Documento número 1437663
- Actualizado el viernes, 27 de noviembre de 2020 06:53:08 p. m.
- Creado el viernes, 27 de noviembre de 2020 06:53:08 p. m.
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