- Artículo:
Spin Coating of Photoresists Using Liquid Carbon Dioxide
- Autor:
Erik N. Hoggan
Devin Flowers
Ke Wang
Joseph M. DeSimone
Ruben G. Carbonell
- Página:
2113
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
43
- Número:
9
- Periodo:
Abril 2004
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2004-04-28.txt
- Documento número 1438801
- Actualizado el viernes, 27 de noviembre de 2020 07:06:38 p. m.
- Creado el viernes, 27 de noviembre de 2020 07:06:38 p. m.
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