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Artículo:

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Autor:

Siobahn Wagner

Resumen:

Combination lithography and block copolymers could lead to efficient mass-production of higher- capacity chip memory

Página:

54

Publicación:

The Engineer

Volúmen:

293

Número:

7756

Fecha:

28 septiembre 2008

ISSN:

00137758

SrcID:

00137758-2008-09-28.txt

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