- Artículo:
Unveiled Understanding on Thermodynamic Mechanisms of Atomic Layer Deposition Based on Trimethylaluminum and Water Precursors
- Autor:
Jae Won Choi
So-Yeon Ham
Suhyun Lee
Da-Som Shin
- Página:
13325
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
59
- Número:
29
- Periodo:
Julio-22 2020
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2020-07-22txt
- Documento número 1533439
- Actualizado el martes, 15 de marzo de 2022 12:38:36 p. m.
- Creado el martes, 15 de marzo de 2022 12:38:36 p. m.
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