- Artículo:
Batch Sequencing for Run-to-Run Control: Application to Chemical Mechanical Polishing
- Autor:
Yih-Hang Chen
An-Jhih Su
Sheng-Jyh Shiu
- Página:
4676
- Sección:
PROCESS DESIGN AND CONTROL
- Publicación:
Industrial And Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
44
- Número:
13
- Fecha:
junio 22 2005
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2005-06-22.txt
- Documento número 195482
- Actualizado el martes, 23 de mayo de 2017 03:47:58 p. m.
- Creado el martes, 23 de mayo de 2017 03:47:58 p. m.
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