- importsource = "08885885-2009-07-01.txt"
- Artículo:
Preface to T. W. Fraser Russell Festschrift
- Autor:
Morton M. Denn
Mark A. Barteau
- Página:
5921
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
13
- Periodo:
01 Julio 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
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- Documento número 199607
- Actualizado el martes, 23 de mayo de 2017 03:48:19 p. m.
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- Enlace directo
- Artículo:
Roll-to-Roll Deposition of a Semiconductor Film on a Flexible Substrate for Photovoltaics: Conception to Reality
- Autor:
Gregory M. Hanket
Robert W. Birkmire
Scott C. Jackson
Richard E. Rocheleau
- Página:
5923
- Sección:
Kinetics, Catalysis, and Reaction Engineering
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
13
- Periodo:
01 Julio 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
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- Documento número 199608
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- Artículo:
Enhanced Kinetics of CO2 Hydrate Formation under Static Conditions
- Autor:
Junshe Zhang
Jae W. Lee
- Página:
5934
- Sección:
Kinetics, Catalysis, and Reaction Engineering
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
13
- Periodo:
01 Julio 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
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- Artículo:
Promoter-Induced Morphological Changes of Ag Catalysts for Ethylene Epoxidation
- Autor:
Joseph C. Dellamorte
Jochen Lauterbach
Mark A. Barteau
- Página:
5943
- Sección:
Kinetics, Catalysis, and Reaction Engineering
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
13
- Periodo:
01 Julio 2009
- ISSN:
08885885
- SrcID:
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- Documento número 199610
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- Artículo:
Microreactor for High-Yield Chemical Bath Deposition of Semiconductor Nanowires: ZnO Nanowire Case Study
- Autor:
Kevin M. McPeak
Jason B. Baxter
- Página:
5954
- Sección:
Kinetics, Catalysis, and Reaction Engineering
- Publicación:
Industrial & Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
48
- Número:
13
- Periodo:
01 Julio 2009
- ISSN:
08885885
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08885885-2009-07-01.txt
- Documento número 199611
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