- Artículo:
Diffusion of Copper in Nanoporous Dielectric Films
- Autor:
Oscar Rodriguez
Ravi Saxena
Woojin Cho
Joel L. Plawsky
William N. Gill
- Página:
1220
- Publicación:
INDUSTRIAL AND ENGINEERING CHEMISTRY RESEARCH VOL. 44 NUM. 5
- Fecha:
02-03-2005
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2005-03-02.txt
- Documento número 1087557
- Actualizado el martes, 10 de julio de 2018 11:18:39 a. m.
- Creado el martes, 10 de julio de 2018 11:18:39 a. m.
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