- Artículo:
Quantitative Analysis on the Growth of Negative Ions in Pulse-Modulated SiH4 Plasmas
- Autor:
Dong-Joo Kim
Kyo-Seon Kim
- Página:
7907 – 7915
- Sección:
APPLIED CHEMISTRY
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
44 ISSN 08885885
- Número:
21
- Fecha:
October 12 2005
- SrcID:
08885885-2005-10-12.txt
- Documento número 1088064
- Actualizado el martes, 10 de julio de 2018 11:18:43 a. m.
- Creado el martes, 10 de julio de 2018 11:18:43 a. m.
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