- Artículo:
Positive photoresist. The photochemical Wolff rearrangement
- Autor:
Fitzgerald B. Bramwell
Richard E. Zadjura
Charles Paley
- Página:
403
- Publicación:
Journal of Chemical Education
- Volúmen:
55
- Número:
6
- Periodo:
junio 1978
- ISSN:
00219584
- SrcID:
00219584-1978-06.txt
- Documento número 1128685
- Actualizado el martes, 10 de julio de 2018 11:24:06 a. m.
- Creado el martes, 10 de julio de 2018 11:24:06 a. m.
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