- Artículo:
Reactor and Reaction Model for the Hot-Wire Chemical Vapor Deposition of Silicon from Silane
- Autor:
Atul Pant
Marylin C. Huff
T. W. F. Russell
- Página:
1386
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
40
- Número:
5
- Periodo:
Marzo 2001
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2001-03-07.txt
- Documento número 1437056
- Actualizado el viernes, 27 de noviembre de 2020 05:20:57 p. m.
- Creado el viernes, 27 de noviembre de 2020 05:20:57 p. m.
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