- Artículo:
Decomposition of CH3SH in a RF Plasma Reactor: Reaction Products and Mechanisms
- Autor:
Cheng-Hsien Tsai
Wen-Jhy Lee
Chuh-Yung Chen
Wei-Tung Liao
- Página:
2384
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
40
- Número:
11
- Periodo:
Mayo 2001
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2001-05-30.txt
- Documento número 1437208
- Actualizado el viernes, 27 de noviembre de 2020 06:47:24 p. m.
- Creado el viernes, 27 de noviembre de 2020 06:47:24 p. m.
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