- Artículo:
Reaction Mechanisms in Both a CHF3/O2/Ar and CHF3/H2/Ar Radio Frequency Plasma Environment.
- Autor:
Ya-Fen Wang
Wen-Jhy Lee
Lien-Te Hsieh
- Página:
3199
- Publicación:
INDUSTRIAL AND ENGINEERING CHEMISTRY RESEARCH ISSN 08885885
- Volúmen:
38
- Número:
9
- Periodo:
SEPTEMBER 1999
- SrcID:
1999-09CHE.TXT
- Documento número 1498549
- Actualizado el martes, 18 de mayo de 2021 12:25:54 p. m.
- Creado el martes, 18 de mayo de 2021 12:25:54 p. m.
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