- Artículo:
The interface between silicon and a high-k oxide
- Autor:
C. J. Först
C. R. Ashman
K. Schwarz
P. E. Blöchl
- Página:
53
- Publicación:
Nature
- Volúmen:
427
- Número:
6969
- Periodo:
01-Enero-2004
- ISSN:
00280836
- SrcID:
00280836-2004-01-01.txt
- Documento número 1677112
- Actualizado el lunes, 13 de marzo de 2023 12:40:25 p. m.
- Creado el lunes, 13 de marzo de 2023 12:40:25 p. m.
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