- Artículo:
Modeling of the Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Tantalum Oxide from Tantalum Ethoxide and Oxygen
- Autor:
Sukanya Murali
- Página:
6387
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
44
- Número:
16
- Fecha:
03 agosto 2005
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2005-08-03.txt
- Documento número 195545
- Actualizado el martes, 23 de mayo de 2017 03:47:59 p. m.
- Creado el martes, 23 de mayo de 2017 03:47:59 p. m.
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