- Artículo:
Abatement of PFCs from Semiconductor Manufacturing Processes by Nonthermal Plasma Technologies: A Critical Review
- Autor:
Moo Been Chang
Jen-Shih Chang
- Página:
4101
- Sección:
Reviews
- Publicación:
Industrial and Engineering Chemistry Research
- Volúmen:
45
- Número:
12
- Fecha:
7 June 2006
- ISSN:
08885885
- SrcID:
08885885-2006-06-07.txt
- Documento número 196379
- Actualizado el martes, 23 de mayo de 2017 03:48:02 p. m.
- Creado el martes, 23 de mayo de 2017 03:48:02 p. m.
- Enlace directo
