Número de Documento     
Artículo:

Kinetics of Silane Decomposition in High-Pressure Confined Chemical Vapor Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon

Autor:

Seyed Pouria Motevalian

Stephen C. Aro

Hiu Y. Cheng

Página:

14995

Publicación:

Indutrial & Engineering Chemistry Research

Volúmen:

56

Número:

51

Periodo:

27 diciembre 2017

ISSN:

08885885

SrcID:

08885885-2017-12-27.txt

Número de Documento